硬盤的介質膜結構

現在的磁盤盤片多數都采用薄膜復合技術。硬盤的介質膜結構大致為：潤滑層、碳覆層、磁性層、緩沖層或底層、基板。

潤滑層和碳覆層器機械和化學保護作用，保護下面的磁性層；磁性層通常為一層多層膜結構，常用材料有CrCoTa，CoNiPt，CrCoPtTa；緩沖層能顯著提高磁性層的磁性能。基片的表面能、粗糙度影響緩沖層的生長，因此可通過對基片表面的精密加工來優化和改善磁性合金層的組織和性能。

盤片材料

盤片在工作與運輸過程中會受到許多力的作用，如盤片的重力、盤片的隨主軸高速旋轉而產生的離心力，高速旋轉時硬盤內空氣湍流對盤片的作用等；在硬盤運輸與攜帶過程中還會由于各種機械震動而使盤片受到沖擊。特別是筆記本電腦和其它使用硬盤的手提式電腦中，盤片除了受到正常的接觸啟動/停止過程所帶來的作用力外，磁頭對盤片的沖擊還會由于外界的震動而極度增大。這就要求盤片具有非常好的表面硬度和抗沖擊性。在整個盤片中，由于磁性層、襯層、潤滑層都是薄膜結構，基本上不具備必要的力學性質，因此盤片的機械性能主要由基板提供。因此選用的基板材料必須具備一定的力學強度與表面硬度。

盤片以較高的轉速旋轉有利于硬盤快速讀取與寫入數據，但隨轉速的提高，硬盤內空氣湍流對盤片的作用會急劇增大，盤片在此作用下會產生不規則振動，這種振動對盤片會造成極大的傷害；并且振動的振幅隨主軸轉速增大而增大，當轉速增大到一定程度時，盤片會扭曲變形，是整個硬盤損壞。目前普通硬盤的轉速為5400轉/分鐘，部分高檔硬盤轉速已達到7200轉/分鐘，IBM公司及日本日立公司等都發布了轉速達到2000轉/分鐘的硬盤，下一步轉速將項向14000轉/分鐘發展，那時盤片受到的作用力將更大。由于材料的抗彎性能及共振頻率與彈性模具有關，為了得到較高的轉速，基板材料需具有較大的彈性模量。

Al合金基板材料

 硬盤大部分都是采用Al合金基板。Al合金退火后，其硬度僅為0.9GPa，彈性模量僅為70GPa。因為Al合金自身的力學性能不夠，無法抵抗磁頭高轉速帶來的力學沖擊，所以在Al合金上增鍍了一層NiP來增強其力學性能。

 但是NiP層表面結構凹凸不平使得磁頭的飛行高度無法降得太低，當硬盤磁盤表面具有波度時，磁頭就會隨著高速旋轉的存儲器硬盤的波動上下運動[3-4]   。如果波度超過一定的高度時，磁頭就不再能隨著波度運動，它就會與磁盤基片表面碰撞，發生所謂的磁頭壓碎，導致磁盤設備發生故障或讀寫信息的錯誤。另一方面當存儲器硬盤表面上存在數微米的微凸起時也會發生磁頭壓碎，相反，當硬盤表面存在凹坑時就不能完整地寫入信息，由此導致所謂的“比特缺損”或信息讀出的失敗。最近為了適應超高存儲密度，磁頭與硬盤磁面之間的距離已經減小到10nm以下[5] 。因此，在盤片表面拋光中，就要求制造出能夠使磁頭浮動高度更小、沒有突起、劃痕和凹坑的光滑表面。

玻璃基板材料

為了進一步提高硬盤驅動器的性能，人們希望得到一種更好的基板材料。玻璃，作為一種均勻致密的非金屬材料，首先被人們選為NiP/Al基板的候選者。玻璃的剛度比鋁合金大，適于制造薄盤，且可省卻NiP層的涂覆。最重要靜是玻璃宏觀均勻的，在拋光過程中無塑性形變，能夠得到非常光滑的表面，這就保證磁頭飛行高度可以做得更低，從而為提高盤片面積密度提供可能。

但由于玻璃是一種脆性材料，應用于高速旋轉驅動器中需要解決的一個問題是玻璃表面裂紋擴展造成玻璃開裂的可能性。通過離子交換可以在玻璃表面產生一個壓應力層，從而鈍化裂紋尖端，阻止裂紋擴展，為了改進玻璃基扳的缺陷，人們又考慮采用微晶玻璃作為硬盤基板。微晶玻璃通過對特定化學組成玻璃的控制晶化而得到的多相固體。微晶玻璃具有高均勻的顯微結構，無氣孔且在玻璃向微晶玻璃轉化過程中體積變化小，因此它具有優良的表面特性、力學性能、熱穩定和化學穩定性，其強度與韌性都比其母體玻璃好；同時微晶玻璃的一個特點是其性能不僅與原始玻璃的化學組成有關，還在很大程度上決定于玻璃的熱歷史，這使得其各項性能在很大范圍內具有可調節性，有利于滿足不同環境的要求。